我国又向光刻机自主迈进了重要一步
清华大学工程物理系教授唐传祥研究组与来自亥姆霍兹柏林材料与能源研究中心(HZB)以及德国联邦物理技术研究院(PTB)的合作团队在《自然》(Nature)上发表了题为“稳态微聚束原理的实验演示”(Experimental demonstration of the mechanism of steady-state microbunching)的研究论文,报告了一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束”(Steady-state microbunching,SSMB)的首个原理验证实验。基于SSMB原理,能获得高功率、高重频、窄带宽的相干辐射,波长可覆盖从太赫兹到极紫外(EUV)波段,有望为光子科学研究提供广阔的新机遇。《自然》评阅人对该研究高度评价,认为“展示了一种新的方法论”,“必将引起粒子加速器和同步辐射领域的兴趣”。《自然》相关评论文章写道:“该实验展示了如何结合现有两类主要加速器光源——同步辐射光源及自由电子激光——的特性。SSMB光源未来有望应用于EUV光刻和角分辨光电子能谱学等领域。”该论文一经刊发,立即引起国内外学术界及产业界的高度关注。
“简而言之,光刻机需要的EUV光,要求是波长短,功率大。”唐传祥说。大功率EUV光源的突破对于EUV光刻进一步的应用和发展至关重要。唐传祥说:“基于SSMB的EUV光源有望实现大的平均功率,并具备向更短波长扩展的潜力,为大功率EUV光源的突破提供全新的解决思路。”
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总的来说,就是光源功率更大,波长更短.且能进一步向更精细的方向拓展
赞一个! 必须得赞。 这么说吧,只要国内光刻机能量产,那全世界就再也不怕内存贵了{:6_655:} 迈不迈都一样,我们照样都是韭菜。
还时那句,时间问题,基础制造及科技上去,还真不怕你老美 加油加油,别人封什么,我们就造什么 不知道是多少纳米的啊
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